硅谷與中關村人才聚集效應及環(huán)境比較研究

人才的流動會出現(xiàn)人才聚集現(xiàn)象,而人才聚集現(xiàn)象在和諧環(huán)境中將產生1+1>2的人才聚集效應.這種聚集效應能極大地促進人才作用的發(fā)揮,有效地推動區(qū)域技術創(chuàng)新和高新技術產業(yè)的發(fā)展.在分析人才聚集效應及其環(huán)境的基礎上,通過對硅谷和中關村的人才聚集效應及環(huán)境的比較,探討了各種環(huán)境因素對人才聚集效應的影響,并提出了優(yōu)化中關村人才聚集環(huán)境的基本對策,旨在促進人才聚集效應的產生和提升.

作 者： 牛沖槐 江海洋 NIU Chonghuai JIANG Haiyang   作者單位： 太原理工大學經濟管理學院  刊 名： 管理學報  CSSCI 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF MANAGEMENT  年，卷(期)： 2008 5(3)  分類號： C93  關鍵詞： 人才聚集效應   硅谷   中關村   比較研究  

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