光催化沉積法制備Pd膜的改進(jìn)及Pd膜性能表征

對(duì)光催化沉積法(PCD)制備Pd膜進(jìn)行了改進(jìn),使含有TiO2與Pd2+的懸浮液膜層在多孔陶瓷膜表面形成液體薄膜,該薄膜在紫外光直接照射下發(fā)生光催化還原反應(yīng),燒結(jié)后得到含TiO2及Pd晶種的超薄膜層,用化學(xué)鍍修飾得致密Pd膜.采用SEM、EDAX方法對(duì)所制的Pd膜表征結(jié)果表明,Pd膜厚度為5～6 μm.在350～500 ℃和0.05～0.15 MPa下進(jìn)行氣體滲透實(shí)驗(yàn),當(dāng)溫度為450℃時(shí),H2滲透系數(shù)為4.07×10-6 mol/(m2·s·Pa),N2的滲透量檢測(cè)不出,高溫?zé)嵫�環(huán)測(cè)試表明該P(yáng)d膜致密且具有良好的熱穩(wěn)性.

作 者： 黃丹 蔣久樂(lè) 范益群 HUANG Dan JIANG Jiu-le FAN Yi-qun   作者單位： 南京工業(yè)大學(xué),化學(xué)化工學(xué)院,江蘇,南京,210009  刊 名： 南京工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào)（自然科學(xué)版）  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NANJING UNIVERSITY OF TECHNOLOGY(NATURAL SCIENCE EDITION)  年，卷(期)： 2007 29(5)  分類號(hào)： O614.8 TB383  關(guān)鍵詞： Pd膜   光催化沉積   TiO2   H2分離  

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